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研磨拋光機(jī)Saphir 560

研磨拋光機(jī)Saphir 560

Saphir 560(Rubin 520)是新一代等徑雙盤磨拋機(jī),它采用創(chuàng)新的磨拋頭,工作盤直徑為200-300 mm。

Saphir 560Rubin 520)是新一代等徑雙盤磨拋機(jī),它采用創(chuàng)新的磨拋頭,工作盤直徑為200-300 mm。

 

Rubin 520磨拋頭配備了一個自動防護(hù)罩,為安全操作設(shè)定了新 標(biāo)準(zhǔn)。單點力和中心力加載、程序存儲、集成的自動 加液系統(tǒng)及材料磨削量精確控制只是其部分功能。

 

帶氣動夾持的電動高度設(shè)置功能,結(jié)合主機(jī)的所有其他特征,saphir 550滿 足最高的制樣需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度預(yù)設(shè),并在制樣過程中全自動測量。在達(dá)到預(yù)設(shè)值時,制樣過程會自動停止。

 

優(yōu)點

帶有Rubin520的雙盤研磨/拋光裝置

單點力和中心力控制

磨盤速度和動力頭速度可調(diào)

觸摸屏式的電子控制

可儲存程序

動力頭可順時針/逆時針旋轉(zhuǎn)

高度和側(cè)向位置記憶功能

工作盤

? 200-300 mm

樣品數(shù)量(單點)

1-6 samples ? 50 mm

單點加載壓力

5-100 N

中心加載壓力

基于夾持器

連接電源

5.5 kVA

運(yùn)行功率(基礎(chǔ))

2x 0.75 kW S6/40%

運(yùn)行功率(研磨控制頭部分)

0.17 kW S1

轉(zhuǎn)速(磨拋機(jī))

50 - 600 rpm

轉(zhuǎn)速(研磨控制頭部分)

30 -150 rpm

x x

1020 x 550 - 650 x 660 mm

重量

~ 110 kg

水壓

1x 進(jìn)水 R?" 最大 6 bars



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